導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)的簡介

導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)的電磁脈沖以光速沿鋼纜或探棒傳播，當(dāng)遇到被測介質(zhì)表面時(shí)，導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)的部分脈沖被反射形成回波并沿相同路經(jīng)返回到脈沖發(fā)射裝置，導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)的發(fā)射裝置與被測介質(zhì)表面的距離同脈沖在其間的傳播時(shí)間成正比，回波的極性和振幅取決于上層介質(zhì)與下層介質(zhì)的介電常數(shù)εr

導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)的特點(diǎn)

導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)是測量料位的*方法;導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)測量不受罐體形狀的影響；也不受介電常數(shù)、溫度、壓力與密度的影響；導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)的測量長度可以靈活變更，無須標(biāo)定；測量結(jié)果具有高精度、可重復(fù)性、高分辨率；NIVELCO導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)的測量范圍可達(dá)24米，適用的介質(zhì)溫度范圍-50℃∽ 250℃，適用的壓力范圍高達(dá)40bar；導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)有多種探頭類型和材質(zhì)可供選擇；數(shù)字化顯示和防爆認(rèn)證可供選擇。[1]

導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)的技術(shù)優(yōu)勢

導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)的技術(shù)優(yōu)勢：雷達(dá)料位計(jì)對液體、顆粒及漿料連續(xù)物位測量。測量不受介質(zhì)變化、溫度變化、惰性氣體及蒸汽、粉塵、泡沫等的影響。雷達(dá)料位計(jì)的精度為5mm，量程60米，耐250度高溫、40公斤高壓，雷達(dá)料位計(jì)適用于爆炸危險(xiǎn)區(qū)域。

導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)的技術(shù)參數(shù)

精度 液體：量程小于15m時(shí)，±5mm；

量程大于15時(shí)，測量值5mm±0.05%

固體：20mm±0.05%

溫度飄移 0.01%/℃

重復(fù)性 2mm

介質(zhì)溫度 -50～250℃

法蘭溫度 -30～200℃/-30～150℃

防爆型環(huán)境溫度 -30～60℃/-30～55℃

防爆型耐壓 40bar

表頭顯示 LCD

可選標(biāo)準(zhǔn)輸出 4～20mA/HART

故障診斷輸出 22mA

供電 18～35VDC/ 小于28VDC

防爆型外殼材料 鑄鋁還氧涂層防護(hù)等級(jí) NEMA（IP65）防爆 ATEX II 1G 或II 1/2 D T 100℃ EEX ia II C T6...T3或EEX ia II B T6...T3

重量 2Kg（無探頭）

導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)的應(yīng)用指南

導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)適用于酸堿儲(chǔ)罐、漿料儲(chǔ)罐、固體顆粒、小型儲(chǔ)油罐。各類導(dǎo)電、非導(dǎo)電介質(zhì)、腐蝕性介質(zhì)。如煤倉、灰倉、油罐、酸罐等

雷達(dá)料位計(jì)的優(yōu)點(diǎn)

雷達(dá)料位計(jì)是非接觸式測量或TDR導(dǎo)波式測量

雷達(dá)料位計(jì)應(yīng)用電磁脈沖進(jìn)行快速測量，精度高，抗*力強(qiáng)

耐腐蝕（探頭大多采用316不銹鋼或PVDP等材料）

耐壓高（40Kg/cm2）

耐溫高（200℃）

雷達(dá)料位計(jì)的注意事項(xiàng)

雷達(dá)料位計(jì)對于安裝空間有一定的要求

注意介質(zhì)的介電常數(shù)，并依據(jù)介電常數(shù)的大小選擇適合的型號(hào)

導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)的不同類型比較

導(dǎo)波雷達(dá)料位計(jì)是依據(jù)時(shí)域反射原理（TDR）為基礎(chǔ)的雷達(dá)料位計(jì)，雷達(dá)料位計(jì)的電磁脈沖以光速沿鋼纜或探棒傳播，當(dāng)遇到被測介質(zhì)表面時(shí)，雷達(dá)料位計(jì)的部分脈沖被反射形成回波并沿相同路經(jīng)返回到脈沖發(fā)射裝置，發(fā)射裝置與被測介質(zhì)表面的距離同脈沖在其間的傳播時(shí)間成正比，經(jīng)計(jì)算得出液位高度。

調(diào)頻連續(xù)波雷達(dá)料位計(jì)是根據(jù)調(diào)頻連續(xù)波原理（FMCW）。使用線性調(diào)頻高頻信號(hào)，雷達(dá)料位計(jì)高頻信號(hào)的發(fā)射頻率隨一定時(shí)間間隔（掃描頻率）線性v增加，由于發(fā)射頻率是隨著信號(hào)傳播的時(shí)間變化的，與反射物體距離成比例，由當(dāng)前發(fā)射頻率與接收的反射頻率的差值獲得物位高度。